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产品名称：六氟乙烷
产品介绍：
六氟乙烷，又名氟碳116，因其无毒无臭、高稳定性被广泛应用在半导体制造过程中，例如作为蚀刻剂（Dry Etch）、化学气相沉积（CVD, Chemical Vapor Deposition）后的清洗腔体。特别是随着半导体器件的发展，集成电路精度要求越来越高，常规的湿法腐蚀不能满足0.18~0.25um 的深亚微米集成电路高精度细线蚀刻的要求，而六氟乙烷作为干腐蚀剂具有边缘侧向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点，可以极好地满足此类线宽较小的制程的要求。作为清洗气体，六氟乙烷的优越性主要表现在排放性低、气体利用率高、反映室清洁率和设备产出率高。另外，六氟乙烷ODP 值（臭氧层破坏潜能值） 为零，GWP 值（温室效应能力）为9200，是氯氟烃类蚀刻气体的最佳替代产品。
六氟乙烷，又名氟碳116，因其无毒无臭、高稳定性被广泛应用在半导体制造过程中，例如作为蚀刻剂（Dry Etch）、化学气相沉积（CVD, Chemical Vapor Deposition）后的清洗腔体。特别是随着半导体器件的发展，集成电路精度要求越来越高，常规的湿法腐蚀不能满足0.18~0.25um 的深亚微米集成电路高精度细线蚀刻的要求，而六氟乙烷作为干腐蚀剂具有边缘侧向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点，可以极好地满足此类线宽较小的制程的要求。作为清洗气体，六氟乙烷的优越性主要表现在排放性低、气体利用率高、反映室清洁率和设备产出率高。另外，六氟乙烷ODP 值（臭氧层破坏潜能值） 为零，GWP 值（温室效应能力）为9200，是氯氟烃类蚀刻气体的最佳替代产品。
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